（1）磁尺位置檢測(cè)裝置，磁尺位置檢測(cè)裝置是由磁性標(biāo)尺，磁頭和檢測(cè)電路組成，該裝置方框圖見(jiàn)圖7-24。利用錄磁原理將一定周期變化的方波、正弦波或脈沖電信號(hào)，用錄磁磁頭記錄在磁性標(biāo)尺（或磁盤(pán)）的磁膜上，作為測(cè)量的基準(zhǔn)。檢測(cè)時(shí)，用拾磁磁頭將磁性標(biāo)尺上的磁信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)，經(jīng)過(guò)檢測(cè)電路處理后用以計(jì)量磁頭相對(duì)磁尺之間的位移量。磁尺按其結(jié)構(gòu)可氛圍直線(xiàn)、磁尺和圓形磁尺，分別用語(yǔ)直線(xiàn)位移和角度位移的測(cè)量，磁性標(biāo)尺制作簡(jiǎn)單、安裝調(diào)整方便，對(duì)使用環(huán)境要求較低，如對(duì)周?chē)姶艌?chǎng)的抗干擾能力較強(qiáng)，在油污、粉塵較多的場(chǎng)合下使用，有較好的穩(wěn)定性。高精度的磁尺位置檢測(cè)裝置可用于各種測(cè)量機(jī)、精密機(jī)床和數(shù)控機(jī)床。
磁尺制造工藝比較簡(jiǎn)單，錄磁、去磁都較方便。若采用激光錄磁，可得到更高的精度。直接在機(jī)床上錄制磁尺、不需安裝、調(diào)整工件、避免了安裝誤差。目前數(shù)控機(jī)床的快速移動(dòng)速度已達(dá)24m/min。磁尺作為測(cè)量元件難以跟上這樣高的反應(yīng)速度，使其應(yīng)用受到限制。
（2）光柵位置檢測(cè)裝置，光柵測(cè)量裝飾是種非接觸式測(cè)量。利用光路減少了機(jī)械誤差，具有精度高，響應(yīng)速度快等特點(diǎn)，是數(shù)控機(jī)床和數(shù)顯系統(tǒng)常用的檢測(cè)元件。作為數(shù)控機(jī)床檢測(cè)裝置，用以測(cè)量長(zhǎng)度、角度、速度、加速度、振動(dòng)和爬行等。
光柵就是在一塊長(zhǎng)條形的光學(xué)玻璃上均勻地刻劃很多條和運(yùn)動(dòng)方向垂直的條紋。條紋之間的距離稱(chēng)為柵距。柵距可以根據(jù)所需的精度來(lái)決定。長(zhǎng)光柵稱(chēng)為指示光柵，固定在機(jī)床的移動(dòng)部件上，短光柵稱(chēng)為指示光柵。裝在機(jī)床的固定部件上，兩塊光柵互相平行，他們之間保持0.05mm或0.1mm的間隙。根據(jù)制造方法和光學(xué)原理的不同，光柵可分為透射光柵和反射光柵。透射光柵采用經(jīng)磨制的光學(xué)玻璃或表面感光材料的涂層上刻成光柵線(xiàn)紋，這種光柵的特點(diǎn)是：光源可以采用垂直入射光，光電元件直接接受光照，因此，信號(hào)幅值比較大，信噪比好，光電轉(zhuǎn)換器（光柵讀數(shù)頭）的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，同時(shí)光柵每毫米的線(xiàn)紋數(shù)多。如刻線(xiàn)密度為200線(xiàn)/mm時(shí)，光柵本身就已經(jīng)細(xì)分到0.005mm，從而減輕了電子線(xiàn)路的負(fù)擔(dān)，其缺點(diǎn)是：玻璃易破裂，熱脹系數(shù)與機(jī)床金屬部件不一致，影響測(cè)量精度。反射光柵是用不銹鋼帶經(jīng)照像腐蝕或直接刻線(xiàn)制成，其特點(diǎn)是：光柵和機(jī)床金屬部件的線(xiàn)膨脹系數(shù)一致。接長(zhǎng)方便，也可用鋼帶做成長(zhǎng)達(dá)數(shù)米的長(zhǎng)光柵。標(biāo)尺光柵安裝在機(jī)床上，所需的面積小。調(diào)整也很方便。適應(yīng)于大位移測(cè)量的場(chǎng)所。其缺點(diǎn)是：為了使反射后的莫爾條紋反差較大，每毫米內(nèi)線(xiàn)紋不宜過(guò)多，常用線(xiàn)紋數(shù)為4、10、25、40、50在檢測(cè)過(guò)程中，標(biāo)尺光柵與指示光柵不直接接觸，滅有磨損。精度可以長(zhǎng)期保持。但光學(xué)系統(tǒng)易受外界因素的影響產(chǎn)生誤差，對(duì)工作環(huán)境的要求較高。
